1．石英坩堝可在1650度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單 

2．晶硅，是發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎材料。當今，世界半導體工業(yè)發(fā)達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。它具有高純度、耐溫性強、尺寸大、精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點。

2、不能和HF接觸，高溫時，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽反應。

3．石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。

4．石英質(zhì)脆，易破，使用時要注意。

5．除Hf外，普通稀無機酸可用作清洗液。

產(chǎn)  品  用  途  ：電弧石英坩堝適用于拉制單晶硅等，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎材料。

坩堝材料：電弧石英坩堝的原料選用進口優(yōu)質(zhì)石英粉，其二氧化硅含量在99.9985%以上。

產(chǎn)品規(guī)格：我公司目前可生產(chǎn)18英寸——24英寸規(guī)格的產(chǎn)品。

產(chǎn)品特點：高純度、耐溫性強、尺寸大、精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定