鎳鈷鋁（NCA）高鎳三元材料氧氣爐承燒板批發(fā)

爐體結構
爐襯結構 連續(xù)生產工藝下制備材料時，優(yōu)良的熱場是除氣氛外的另一個必要條件。為使熱場均勻，加熱元件的布置方式非常重要，輻射形成的熱場應在確定范圍的不同位置上，其偏差在額定的指標內。
根據(jù)上述工藝要求，設計一種用于材料連續(xù)式制備工藝的輻射式加熱結構：加熱元件在獨立腔體內與合成室隔離，通過流量控制閥調節(jié)氣體流量，使加熱元件腔體相對合成室維持微正壓，因此合成室內的氣體就很難進入加熱元件腔體，從而達到加熱元件的長壽命化；同時，均熱隔離板的存在，使加熱元件與制品之間保持合理距離，避免了局部高溫，有利于合成室的溫度均勻恒定。該結構一方面保證加熱元件較長的工作壽命；另一方面又能滿足輻射熱的較好傳遞并獲得均勻的熱場。
爐膛材料：頂磚均采用剛玉莫來石材質（氧化鋁含量≥80%），爐膛保溫材料采用莫來石聚輕磚（TJM26）以及日本阿爾賽陶瓷纖維板砌筑。防腐蝕，隔熱效果極佳，熱容量小，節(jié)能環(huán)保。
滑道采用99剛玉瓷導軌材質（氧化鋁含量≥99.5%），結構采用異型耐火磚支撐五點滑軌結構，提高傳熱效果、降低推板和導軌的摩擦以及有效降低能耗。

密封結構
爐體密封 本設備為滿足直通式的窯腔通道內氧分壓要求，將采用全密封爐體、氣氛隔離倉（前后各1個）與氣幕相結合的方式進行密封。
為了確保設備內穩(wěn)定的氧分壓和氣流走向，設備除爐體采用全密封結構外，在制品出、入口處還將設置相互聯(lián)鎖的雙閘門過渡密封倉結構。同時設置大流量惰性氣體垂直氣幕封門，使空氣不能進入爐體內。當密封倉內的產品出來后，兩閘門都緊閉時，對密封倉進行強制性清洗換氣，并在內閘門再次打開之前，將倉內氧分壓從21%降低到50PPm以下。嚴格保證在密封倉清洗換氣之后，內閘門打開之前，密封倉內部的惰性氣體壓力和氧分壓等同于爐體與密封倉相接處的壓力和氧分壓值。運行過程中，爐體出、入口處的氣幕將始終保持，從而阻止外界氣流對合成區(qū)域的干擾，在確保爐內氣氛滿足工藝要求的前提下盡可能降低保護氣體的消耗。
⑵保證氣氛的穩(wěn)定、均勻
對制備設備而言，在爐體內部砌有爐襯，合成室內裝有窯具及制品，由于各處流體阻力不同，在爐襯的各個縫隙及制品堆垛之間的阻力相差很大。應采用多點層流凈化結構。工藝氣體由爐底多點均勻進入，從爐頂排出。高純氮氣由爐底進入合成室，由下向上以一定的推力將空氣從爐頂出口管排擠出去，直到最后合成室內全部充滿高純氮氣，并有高純氮氣從出口管逸出。這樣，既可保證合成室內氣氛潔凈，所消耗的氣量又是最少。
沿設備長度方向，設置保護氣體總輸入管，在各區(qū)段的分支，經(jīng)過調節(jié)閥的必要調節(jié)和流量計的流量監(jiān)測，向加熱室輸入所需要的高純氮氣，并經(jīng)過加熱組預熱后進入合成區(qū)段。同時，在設備各控制段都設置氧分壓和壓力抽樣檢測點，隨時檢測窯腔橫截面上各點的氧分壓和氣氛壓力。窯體進氣全部采用下部進氣，廢物排放區(qū)上部排氣方式：保護氣體進入窯內后，先進入下加熱室，經(jīng)加熱室預熱以后分多點層流式進入爐膛。
⑶爐內的氣氛清洗
為了達到合成室內的氧含量要求，除了設備嚴格密封外，加熱室空腔及耐火保溫材料釋放的氣體應采用獨特的爐內氣氛清洗技術：下加熱室逐個清洗；上加熱室由一路保護其余各加熱室。另外，制備設備頂部、加熱室等處都預留放氣閥，當制備設備初次啟用并充入保護氣體時，以較大的壓力通以較大流量的保護氣體，同時打開設備各頂蓋板、加熱室蓋板上的放氣閥，以排除窯內襯所吸收的氧氣，保證恒溫區(qū)氧含量為10PPm。
整個設備配置一臺電化學式氧含量分析儀，用來檢測爐內氧含量。

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