半導體設備以及LCD設備之關鍵零組件及耗材多應用于前段制程，如：離子植入、微影顯像、化學氣相沈積成膜、蝕刻、濺鍍、洗凈、長晶等制程設備，其中有一大部份是使用在真空腔體環(huán)境中 ，也因在真空腔體環(huán)境下長時間使用化學氣體的情況下，腔體內部所需使用的零件就特別需要注意是否可以耐酸堿，耐腐蝕，耐磨擦…等。

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