特點 
無維護自動烘干技術 
微處理器控制 
連續(xù)或間歇操作 
LCD 顯示 
流量顯示 
可視操作狀態(tài)指示燈 
RS485 和 RS232 接口(可選) 
兩個或多個氫氣發(fā)生器級聯 (可選)

概要 
    NM-H2 氫純度發(fā)生器利用最新的隔膜技術作為純氫電解產品。包括獨一無二的無維護自動烘干技術。作為點火工具的燃料氣；各種載氣，象GC(氣相色譜)和GCMS(質譜)，或離子室中的純氫源和其它隔離環(huán)境。NM-H2 系列氫純度發(fā)生器用于氣體分析儀較理想的操作。
 技術
     電解膜是制氫技術中首選的技術，由于它潔凈、維護量少和為維護操作不需要存貯化學藥品.僅用純凈或者蒸餾水或者脫離子水, 要求提供長期無故障操作。NM-H2 和其它的氫氣發(fā)生器比較，其它發(fā)生器是用腐蝕性溶液制氫，所以NM-H2利用特殊電解膜制氫是比較有利的,腐蝕性溶液中的雜質會影響氫氣純度。 并且隨著時間的推移能引起系統(tǒng)退化。隔膜分離也是意味著減少消耗，因為日常的維護意思是“只需要加水”。不需要存貯腐蝕性的混合物/溶液，或消耗電池執(zhí)行清潔程序。

 特點
低含量(<40 ml) 氫對 NM-H2 安全操作受到限制的，自動關斷程序作為備用放置在這個單元，如果內部錯誤及選擇報警發(fā)生時，通知用戶，只要操作條件不同于設定。
 
技術規(guī)格
電解池                                   隔膜型 
H2 純度                                 > 99.9999% 
輸出壓力                                 1-155 psig,0,1-10,0 bar可調
H2 流速                                 根據量程可調
                                         NM-H100   10 - 100 ml/min
                                    NM-H160   16 - 160 ml/min 
NM-H250   25 - 250 ml/min 
NM-H500   50 - 500 ml/min
 
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