光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用，達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到原子清潔度。
適用范圍：1、LCD, PDP, OLED, 半導(dǎo)體硅芯片，集成電路、高精度印制電路板清洗和表面改質(zhì)。2、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料。3、有機(jī)玻璃，PP, PE菲林。詳情請(qǐng)點(diǎn)擊瑞森特公司網(wǎng)站：www.uv58.com
★工作原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物（碳?xì)浠衔铮┑哪康摹?br>★在實(shí)際應(yīng)用中，通常是利用一種能產(chǎn)生兩種波長的紫外燈，這種UV燈能夠產(chǎn)生波長為254nm、185nm的紫外光（通常185nm 波長的僅為254nm波長光的20%）。
★根據(jù)臭氧（03）產(chǎn)生程度分S型，H型，L型。根據(jù)形態(tài)分為D型-直管，U型，N型，M型等。
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